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      2. 脫氧脫氫提純?cè)O(shè)備Ⅱ

        本技術(shù)適用于氮?dú)?、一氧化碳、二氧化碳、惰性氣體(氬、氦、氪、氙、氖氣等)等氣體的除氧,以獲取高純氣體。

        脫氧脫氫提純?cè)O(shè)備Ⅱ
        • 高可靠性 高穩(wěn)定性

          高可靠性 高穩(wěn)定性

          擁有自主的先進(jìn)技術(shù),采用先進(jìn)的節(jié)能工藝流程,配合使用自制的除氧催化劑,設(shè)備運(yùn)氣更穩(wěn)定、可靠、使用時(shí)間更長(zhǎng);裝置運(yùn)行穩(wěn)定性好,可靠性高,常溫常壓下工作,性能好,正常使用、維護(hù)下13X分子篩使用時(shí)間可達(dá)10年以上,除氧催化劑可達(dá)5年以上。

        • 先進(jìn)的程控閥門技術(shù)

          先進(jìn)的程控閥門技術(shù)

          獨(dú)特的程控閥門,結(jié)構(gòu)緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關(guān)次數(shù)高達(dá)200萬次無故障

        • 占地面積小 運(yùn)行成本低

          占地面積小 運(yùn)行成本低

          裝置工藝流程簡(jiǎn)單、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、較小空間需求;采用并聯(lián)再生——串聯(lián)工作獨(dú)特工藝過程,解決了脫氧劑再生后溶解氫的脫附污染純化氣體的技術(shù)難題,節(jié)省平均約10%產(chǎn)品氣量再生氣排放。

        • 自動(dòng)化控制 維護(hù)簡(jiǎn)單

          自動(dòng)化控制 維護(hù)簡(jiǎn)單

          裝置自動(dòng)化程度高,觸摸屏控制開停機(jī)方便快捷,啟動(dòng)時(shí)間短,可遠(yuǎn)程控制設(shè)備啟停;吸附器結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)獨(dú)特,氣流的分布相當(dāng)均勻,接觸時(shí)間長(zhǎng),13X分子篩在很大程度上得到利用,可以在不停機(jī)下更換脫水干燥劑或進(jìn)行大檢修

        配置功能
        常規(guī)配置功能

        可編程序控制器自動(dòng)化控制

        氮?dú)饧兌?、流量在線監(jiān)測(cè)

        冷干機(jī)、過濾器自動(dòng)排污

        可選配置功能

        備用氮?dú)庾詣?dòng)補(bǔ)充、自動(dòng)切換

        人機(jī)界面控制系統(tǒng)

        故障報(bào)警、自動(dòng)關(guān)閉加氫電磁閥

        全自動(dòng)開停機(jī)

        技術(shù)指標(biāo)

        額定處理量:20-5000Nm3/h

        工作溫度:300℃

        脫氫深度:≤1ppm

        原料氣氧含量:≤2%

        脫氧深度 :≤1ppm

        常壓露點(diǎn):≤-60℃(其他露點(diǎn)請(qǐng)咨詢)

        原理

        首先在催化劑A的參與下,在氣體中通入氫氣,促進(jìn)氣體中的氧氣與氫氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成水,氣體中氧氣被脫除,且氫氣稍過量;再利用催化劑B金屬高價(jià)氧化物與氫氣發(fā)生還原反應(yīng)生產(chǎn)金屬低價(jià)氧化物,從而過量的氫氣被脫除,使催化劑B再次具有與氧氣雜質(zhì)發(fā)生氧化反應(yīng)的性能,最后采用變壓與變溫吸附再進(jìn)行除水。

        其次在催化劑A的參與下,在氣體中通入氫氣,促進(jìn)氣體中的氧氣與氫氣發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成水,通入的氫氣被脫除,且氧氣稍過量;再利用催化劑B中的金屬低價(jià)氧化物與氧雜質(zhì)在加熱條件下直接發(fā)生氧化反應(yīng)生成金屬高價(jià)氧化物,從而過量的氧氣被脫除,使催化劑B再次具有與氫氣雜質(zhì)發(fā)生還原反應(yīng)的性能,最后采用干燥再進(jìn)行除水。

         

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